光刻机巨头ASML在CIIE上亮相,全方位展示了光刻技术
根据《每日商业新闻》报道,世界光刻机巨头ASML出现在第三届CIIE上。
作为世界上唯一可以生产EUV光刻机的公司,ASML仍然无法向中国出口EUV光刻机,因此这一次它正在展示其DUV光刻机。
据了解,该产品可以生产7nm及以上的工艺芯片。
掩模对准仪,也称为掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心设备。
它使用类似于照相印刷的技术,通过曝光将掩模上的精细图案印刷到硅晶片上。
21ic专家获悉,作为全球芯片光刻技术的领导者,ASML(ASML)将以``光刻的未来,携手并进''为主题,出现在第三届CIIE的技术和设备展览区。
在本次展会上,ASML不仅展示了其整体光刻解决方案,包括通过建模,仿真,分析等技术实现的光刻机计算光刻和测量的先进控制能力,从而使边缘定位精度不断提高。
同时,它还允许观众接近光刻机模型,同时通过光刻游戏,让每个人都更紧密地体验光刻世界的奇观,并体验“光刻机”的日常工作。
“光之大师”在乐趣中。