光刻机巨头ASML在CIIE上亮相，全方位展示了光刻技术

根据《每日商业新闻》报道，世界光刻机巨头ASML出现在第三届CIIE上。

作为世界上唯一可以生产EUV光刻机的公司，ASML仍然无法向中国出口EUV光刻机，因此这一次它正在展示其DUV光刻机。

据了解，该产品可以生产7nm及以上的工艺芯片。

掩模对准仪，也称为掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心设备。

它使用类似于照相印刷的技术，通过曝光将掩模上的精细图案印刷到硅晶片上。

21ic专家获悉，作为全球芯片光刻技术的领导者，ASML（ASML）将以``光刻的未来，携手并进''为主题，出现在第三届CIIE的技术和设备展览区。

在本次展会上，ASML不仅展示了其整体光刻解决方案，包括通过建模，仿真，分析等技术实现的光刻机计算光刻和测量的先进控制能力，从而使边缘定位精度不断提高。

同时，它还允许观众接近光刻机模型，同时通过光刻游戏，让每个人都更紧密地体验光刻世界的奇观，并体验“光刻机”的日常工作。

“光之大师”在乐趣中。